电子级高纯胆碱 (Choline Hydroxide)
圣天迈电子级胆碱溶液，环保型显影、清洗及光刻胶去除方案核心组分。
产品描述
胆碱（Choline Hydroxide, (2-羟乙基)三甲基氢氧化铵）是一种强有机碱，其电子级高纯水溶液在半导体和显示面板等精密电子制造领域作为一种环境友好、高性能的化学品受到广泛关注。圣天迈电子科技有限公司致力于提供符合行业标准的高纯度电子级胆碱溶液，严格控制金属离子、氯离子及颗粒物等杂质含量。
与传统的无机碱（如TMAH）相比，电子级胆碱溶液具有较低的毒性、良好的生物降解性以及对某些金属（如铜）较低的腐蚀性。它主要用作正性光刻胶的显影液，能够提供优异的显影性能和图形保真度。同时，胆碱也用作光刻胶去除剂 (Stripper) 的关键组分，尤其适用于一些对金属离子敏感或需要温和剥离条件的工艺。此外，它还可作为高效清洗剂用于去除晶圆或基板表面的有机残留物和颗粒污染物，或作为某些蚀刻液的添加剂以改善蚀刻性能和选择性。
圣天迈提供多种浓度规格的电子级胆碱溶液（如20-25%，45-50%），并可根据客户的特定工艺需求进行定制，以确保最佳的工艺兼容性和产品性能。我们坚持严格的质量控制，确保每一批产品都达到高纯度标准。如需详细产品规格、技术支持或报价，请联系我们。
主要应用
- 半导体与集成电路 (IC) 制造: - 正性光刻胶显影液 (Developer)：替代或部分替代TMAH，用于i-line, g-line及部分KrF光刻工艺 - 光刻胶去除剂 (Stripper)：作为温和型或环保型剥离液的关键组分，去除固化光刻胶 - 清洗剂：用于晶圆表面有机污染物、聚合物残留的清洗 - 蚀刻后残留物去除 (Post-Etch Residue Removal, PERR)
- 显示面板 (FPD - LCD/LED/OLED) 制造: - 光刻胶显影：用于TFT阵列、彩色滤光片等制程中的光刻胶显影 - 光刻胶剥离与清洗：去除基板上的光刻胶及有机残留 - ITO或其他透明导电膜的清洁与预处理
- LED与光电器件制造: - 芯片制造过程中光刻胶的显影与去除 - 衬底或器件表面的精密清洗
- MEMS (微机电系统) 制造: - 光刻工艺中的显影与剥离步骤 - 器件释放前的清洗处理
- 印刷电路板 (PCB) 与FPC制造 (特定高端应用): - 精细线路图形化过程中的显影或剥离 - 板面精密清洗，去除微量有机残留
- 高纯电子化学品配制: - 作为配制环保型、高性能显影液、剥离液或清洗液的基础原料
规格参数 (电子级示例)
- 化学名称: 氢氧化胆碱 / (2-羟乙基)三甲基氢氧化铵
- CAS 编号: 123-41-1
- 产品等级: 电子级 (EL Grade)
- 外观: 无色至微黄色透明液体
- 浓度 (Choline Hydroxide Assay, w/w): 常用20-25% 或 45-50% (可定制)
- pH 值 (原液): > 13 (强碱性)
- 金属离子 (Na, K, Ca, Mg, Fe, Cu, Al 等): 各项通常 ≤ 0.1 ppm (100 ppb) 或更低
- 氯化物 (Cl⁻): ≤ 1 ppm
- 硫酸盐 (SO₄²⁻): ≤ 1 ppm
- 颗粒度 (Particles ≥0.2µm): ≤ 25 counts/mL (根据具体等级)
- 总有机碳 (TOC): 根据客户需求控制
- 包装规格: 专用高纯HDPE桶 (25L, 200L), IBC吨桶, 或按客户要求定制