电子级高纯氢氧化钾 (KOH) 溶液
圣天迈电子级KOH，用于硅各向异性蚀刻、显影及精密清洗。
产品描述
氢氧化钾 (KOH)，是一种重要的强碱性化合物，其电子级高纯水溶液在半导体、MEMS和显示面板等电子制造领域有着广泛应用。圣天迈电子科技有限公司致力于供应符合SEMI等行业标准的高纯度电子级氢氧化钾溶液 (如EL Grade, 对应SEMI G1, G2, G3等级)，严格控制金属离子 (如Na, Fe, Al等至ppb级)、碳酸盐、氯化物及颗粒物含量。
电子级KOH溶液最突出的应用之一是作为硅 (Si) 的各向异性蚀刻剂，特别是在MEMS器件制造中，利用其对不同硅晶向的选择性蚀刻速率差异来制作复杂的微三维结构。在半导体工业中，它也用于特定类型的光刻胶显影，以及作为高效清洗剂去除晶圆表面的有机污染物或特定残留。此外，在LCD和OLED等平板显示器制造过程中，KOH溶液也用于玻璃基板的清洗、蚀刻或表面处理。其高纯度和稳定的碱性对于确保蚀刻精度、显影均匀性以及工艺的可靠性至关重要。
圣天迈提供不同浓度 (如20-45%) 的电子级氢氧化钾溶液，并可根据客户的具体工艺需求进行定制，以满足最严格的制造标准。我们确保产品质量稳定、供应可靠。如需详细规格、技术咨询或报价，请联系我们。
主要应用
- 半导体与集成电路 (IC) 及MEMS制造: - 硅 (Si) 各向异性湿法蚀刻：用于MEMS器件、传感器、特定IC结构的制造 - 光刻胶显影液：作为某些正性或负性光刻胶的显影剂 (尤其在需要强碱环境时) - 晶圆清洗：去除有机污染物、颗粒或特定工艺残留 - 氮化硅 (Si₃N₄) 或其他介质层的选择性蚀刻 (在特定条件下)
- 显示面板 (FPD - LCD/LED/OLED) 制造: - 玻璃基板清洗与预处理，去除有机物和颗粒 - 薄膜晶体管 (TFT) 阵列制造中的特定蚀刻或显影步骤 - 边缘珠去除 (EBR) 或光刻胶残留物去除辅助
- 太阳能光伏产业: - 硅片清洗与表面处理，去除切割损伤和有机污染 - 硅片制绒 (Texturing) 工艺，形成金字塔结构以提高光吸收效率
- LED与光电器件制造: - 芯片制造过程中的清洗与蚀刻步骤 (如蓝宝石衬底处理) - 封装前的基板清洁
- 精密光学元件制造: - 光学玻璃或石英元件的精密清洗与表面处理
- 高纯电子化学品配制: - 作为配制其他专用蚀刻液、显影液或清洗液的基础碱源
规格参数 (电子级45%溶液示例)
- 化学名称: 氢氧化钾 (水溶液)
- 化学式: KOH (aq)
- CAS 编号: 1310-58-3
- 产品等级: 电子级 (EL Grade / SEMI G1, G2, G3 等)
- 外观: 无色透明液体
- 浓度 (KOH Assay, w/w): 45.0 ± 1.0% (其他浓度如20-40%也可提供)
- 碳酸钾 (K₂CO₃): ≤ 0.1% (根据具体等级)
- 氯化物 (Cl⁻): ≤ 1 ppm (根据具体等级)
- 硫酸盐 (SO₄²⁻): ≤ 5 ppm (根据具体等级)
- 铁 (Fe): ≤ 0.1 ppm (100 ppb) (根据具体等级)
- 钠 (Na): ≤ 10 ppm (根据具体等级)
- 颗粒度 (Particles ≥0.2µm): ≤ 25 counts/mL (根据具体等级)
- 包装规格: 专用高纯HDPE桶 (25L, 200L), IBC吨桶, ISO Tank