电子级高纯氟化铵 (NH₄F)
圣天迈电子级氟化铵，BOE蚀刻剂核心组分，用于半导体、显示面板制造。
产品描述
氟化铵 (NH₄F)，是一种重要的无机氟盐，在电子工业中作为蚀刻剂和清洁剂的关键组分发挥着核心作用。圣天迈电子科技有限公司专注于供应符合SEMI等行业标准的高纯度电子级氟化铵，通常为无色或白色结晶性固体，具有高纯度、低金属离子和颗粒物含量的优异特性。
电子级氟化铵是缓冲氧化物蚀刻剂 (BOE, Buffered Oxide Etchant) 不可或缺的关键原料。通过与高纯氢氟酸 (HF) 按特定比例复配，BOE能够以稳定且可控的速率精确蚀刻二氧化硅 (SiO₂) 和其他含硅介质层，是半导体器件制造（如集成电路、分立器件）和微机电系统 (MEMS) 加工中不可或缺的湿法化学品。此外，氟化铵也用于平板显示器 (FPD) 制造中玻璃基板的清洗、蚀刻和表面处理，以及太阳能电池片生产和精密光学元件的加工。其高纯度对于确保蚀刻图案的均匀性和精细度、避免器件表面污染、以及维持工艺的稳定性和可重复性至关重要。
圣天迈致力于为客户提供质量稳定、供应可靠的电子级氟化铵产品，并可根据客户的具体应用需求提供不同等级和包装规格的产品。如需详细技术参数、安全操作指南或商务洽谈，欢迎联系我们。
主要应用
- 半导体与集成电路 (IC) 制造: - 缓冲氧化物蚀刻剂 (BOE) 的核心组分，用于蚀刻二氧化硅 (SiO₂) 薄膜 - 硅晶圆表面预清洗及自然氧化层去除 (常与HF配合) - 特定介质层 (如氮氧化硅) 的选择性湿法蚀刻
- 显示面板 (FPD - LCD/LED/OLED) 制造: - 玻璃基板的蚀刻、减薄与边缘处理 - 薄膜晶体管 (TFT) 阵列制程中介质层的图形化 - ITO或其他透明导电膜图案化后的清洁辅助
- MEMS (微机电系统) 制造: - 牺牲层 (通常为SiO₂) 的湿法蚀刻，用于释放活动微结构 - 石英或玻璃材料的微细加工与结构成型
- 太阳能光伏产业: - 硅片清洗，去除表面氧化层和污染物 - 硅片制绒 (Texturing) 工艺的辅助化学品
- 精密光学元件制造: - 光学玻璃的蚀刻、研磨后清洁与表面处理 - 石英谐振器、滤波器等石英元器件的加工
- 高纯电子化学品配制: - 作为配制各类缓冲氧化物蚀刻剂 (BOE) 和其他特定用途氟化物蚀刻液的关键原料
规格参数 (电子级示例)
- 化学名称: 氟化铵
- 化学式: NH₄F
- CAS 编号: 12125-01-8
- 产品等级: 电子级 (EL Grade / SEMI G1, G2, G3 等)
- 外观: 无色或白色结晶性粉末或块状固体
- 含量 (NH₄F Assay, w/w): ≥ 98.0% (可提供更高纯度如 ≥99.5%)
- 水分 (H₂O): ≤ 0.5% (根据具体等级，可更低)
- 氟硅酸 (H₂SiF₆): ≤ 0.1% (或更低，如 ≤500 ppm)
- 氯化物 (Cl⁻): ≤ 20 ppm (根据具体等级)
- 硫酸盐 (SO₄²⁻): ≤ 20 ppm (根据具体等级)
- 铁 (Fe): ≤ 5 ppm (根据具体等级)
- 重金属 (as Pb): ≤ 5 ppm (根据具体等级)
- 包装规格: 专用高纯PE袋内衬HDPE桶 (例如 20kg/桶, 25kg/桶) 或按客户要求