氟化氢铵(NH₄HF₂)
高效玻璃和硅蚀刻剂，广泛应用于半导体和光伏行业
产品描述
氟化氢铵(NH₄HF₂)，CAS号1341-49-7，是一种重要的无机氟化物，呈现为白色结晶性固体，在水中具有良好的溶解性。作为一种关键的电子级化学品，它在现代电子制造业中扮演着不可或缺的角色。我们的高纯度氟化氢铵产品专为要求严苛的电子行业应用而设计，确保了卓越的稳定性和均一的蚀刻性能。它被广泛用作高效的蚀刻剂，尤其在处理玻璃、石英、硅及二氧化硅等材料方面表现出色。
在半导体制造工艺中，氟化氢铵是硅晶圆表面处理、图案转移前清洗以及特定层去除的关键材料。对于光伏产业，它用于太阳能电池硅片的清洗、减反射层的制备和表面纹理化，以提升光电转换效率。此外，在平板显示（如LCD、OLED）制造中，它参与玻璃基板的精密蚀刻和清洁；在精密光学元件加工中，用于镜片表面的精细处理。我们致力于提供符合电子行业高标准需求的氟化氢铵，助力客户在精密制造领域取得成功。
主要应用
- 半导体制造: 用于硅晶圆的表面蚀刻、清洗及图案转移前的预处理。
- 光伏产业: 太阳能电池硅片的清洗、表面纹理化及减反射层制备。
- 平板显示: LCD/OLED面板生产中玻璃基板的精密蚀刻与清洁。
- 光学元件: 光学镜片、光纤及其他精密光学组件的表面蚀刻和精细加工。
- 硅材料加工: 各类硅基材料（如石英、二氧化硅薄膜）的蚀刻与图案化。
- 金属表面处理: 特定金属（如铝、钛）的表面清洁、氧化层去除及钝化处理。
- 玻璃制品加工: 精密玻璃仪器的蚀刻、磨砂效果制作及表面改性。
- 电子封装: 用于引线框架的清洗和微细加工，提高封装可靠性。
规格参数
- 化学名称: 氟化氢铵
- 英文名称: Ammonium Bifluoride
- 化学式: NH₄HF₂
- CAS 编号: 1341-49-7
- 外观: 白色结晶性粉末或片状固体
- 纯度 (NH₄HF₂): ≥99.0% (电子级标准)
- 氟化铵 (NH₄F): ≤0.5%
- 水分: ≤0.5%
- 重金属 (以Pb计): ≤10 ppm
- 铁 (Fe): ≤10 ppm
- 包装规格: 25kg/袋 (内衬PE袋)，或根据客户要求定制