电子级高纯氨水 (NH₄OH)

产品描述

氨水 (NH₄OH)，即氢氧化铵溶液，是氨气 (NH₃) 的水溶液，是一种重要的碱性化学品。圣天迈电子专注于供应符合SEMI等行业标准的超高纯电子级氨水 (例如EL Grade, 对应SEMI G1, G2, G3等标准)，常规氨含量 (NH₃ Assay) 范围为20%-29%，可根据客户具体工艺需求精密调配。

我们的电子级氨水经过先进的纯化工艺和多级精密过滤，严格控制金属离子 (如Na, K, Fe, Ca等至ppb级或更低)、阴离子 (如Cl⁻, SO₄²⁻) 以及颗粒物含量。其高纯度、低杂质特性使其成为半导体制造中至关重要的SC-1 (APM, RCA-1) 清洗液的核心组分之一 (与过氧化氢、超纯水复配)，用于高效去除晶圆表面的有机污染物和微小颗粒。此外，电子级氨水还用于氮化硅 (Si₃N₄) 薄膜的选择性蚀刻、铝铜合金的蚀刻、以及在某些特定工艺中作为pH调节剂或络合剂。在平板显示器 (FPD)、LED、太阳能电池等电子元器件的制造过程中，它同样扮演着关键的清洗和蚀刻角色。

圣天迈致力于为电子行业客户提供质量稳定、性能卓越的电子级氨水，确保满足最严苛的工艺要求，助力提升产品良率和可靠性。如需详细规格或报价，请联系我们。

主要应用

• 半导体与集成电路 (IC) 制造: - 晶圆清洗：SC-1 (APM) 清洗液的关键组分，去除有机物和颗粒 - 湿法蚀刻：选择性蚀刻氮化硅 (Si₃N₄)，或作为铝铜 (AlCu) 合金蚀刻液组分 - pH调节：在特定湿法工艺中调节溶液pH值 - 化学机械抛光 (CMP) 后清洗
• 显示面板 (FPD - LCD/LED/OLED) 制造: - 玻璃基板清洗，去除有机污染物 - 薄膜晶体管 (TFT) 阵列制造过程中的特定蚀刻或清洗步骤 - 光刻胶残留物去除辅助
• LED与光电器件制造: - 外延片生长前的基板清洁 - 芯片制造过程中的氮化物蚀刻或表面处理
• 太阳能光伏产业: - 硅片清洗，去除表面有机物和颗粒污染 - 太阳能电池片生产中的特定清洗或蚀刻工序
• 印刷电路板 (PCB) 与FPC制造: - 板面清洁，去除有机残留 - 特定化学镀前处理中的pH调节
• 精密光学与传感器制造: - 光学元件的精密清洗 - 传感器芯片制造的特定湿法工艺
• 电子化学品配制: - 作为配制其他高纯电子清洗液或蚀刻液的基础原料