次氯酸钠 (NaClO)
高纯度电子级次氯酸钠溶液，专用于精密清洗、蚀刻辅助与高效消毒
产品描述
次氯酸钠（NaClO），CAS号 7681-52-9，是一种以水溶液形式供应的强氧化性无机化合物，通常呈现为微黄色透明液体，带有特有的氯味。作为电子工业中关键的清洗和消毒材料，我们提供的电子级次氯酸钠溶液严格控制金属离子、颗粒物及其他杂质含量，确保其在半导体、集成电路（IC）、印刷电路板（PCB）、平板显示（FPD）等高端制造领域的应用性能。
凭借其卓越的氧化能力，电子级次氯酸钠能有效去除电子元器件、硅晶圆、玻璃基板等表面的有机污染物、油脂、微粒以及部分金属残留物。在PCB制造中，它可用于化学沉铜前的孔壁活化处理、去除溢胶和钻污，以及作为某些蚀刻液的补充氧化剂。在半导体工艺中，用于晶圆清洗、光刻胶剥离后的残余物去除以及生产设备和洁净室环境的定期消毒灭菌，防止微生物污染对产品良率造成影响。此外，它还在精密光学元件和光伏电池片的清洗工序中发挥重要作用。我们致力于提供高纯度、高稳定性的次氯酸钠溶液，以满足电子行业对化学品纯净度和工艺一致性的严苛要求。
主要应用
- 半导体晶圆清洗: 用于去除硅片表面的有机污染物、颗粒及金属离子。
- PCB制造: 孔壁活化、去除钻污、溢胶清理及特定蚀刻液组分。
- 光刻胶后清洗: 去除光刻工艺后残留的光刻胶及有机聚合物。
- 平板显示器 (FPD) 制造: 清洗玻璃基板，去除生产过程中的污染物。
- 电子元器件清洁: 清洗敏感电子元件表面的微尘和有机残留。
- 精密金属表面处理: 特定金属材料在电镀或涂覆前的清洁与活化。
- 光伏电池片清洗: 太阳能电池硅片的清洁，提高光电转换效率。
- 电子厂纯水系统消毒: 用于超纯水管道及设备的消毒灭菌，防止生物膜形成。
- 生产设备与洁净室消毒: 对电子制造设备表面及洁净环境进行高效杀菌。
规格参数
- 化学名称: 次氯酸钠
- 英文名称: Sodium Hypochlorite Solution
- 化学式: NaClO (aq)
- CAS 编号: 7681-52-9
- 外观: 微黄色至无色透明液体
- 有效氯含量 (Available Chlorine): 5.0% - 10.0% (电子级，可按需调整)
- 游离碱 (Free Alkali as NaOH): 0.2% - 1.0% (可定制)
- pH值 (原液): 11.0 - 13.0
- 铁 (Fe): ≤ 0.5 ppm
- 重金属 (以Pb计): ≤ 1 ppm
- 稳定性: 良好，符合电子行业存储和使用要求
- 包装规格: 25L/桶 (HDPE)，200L/桶 (HDPE)，IBC吨桶，或按客户要求。