电子级高纯氢氧化钠 (NaOH) - 液体
圣天迈高纯度电子级氢氧化钠溶液，专用于半导体、PCB、显示面板等精密电子制造。
产品描述
氢氧化钠 (NaOH)，是一种重要的强碱性化合物。圣天迈电子专注于提供符合SEMI等行业标准的超高纯电子级氢氧化钠液体溶液 (例如EL, UP级, 对应SEMI G1, G2, G3等标准)，常用浓度为20%-50%，可根据客户具体工艺需求定制。
我们的电子级氢氧化钠溶液通过先进的纯化工艺（如离子交换、膜过滤等）生产，严格控制金属离子 (如K, Fe, Al, Ca, Mg等至ppb级或更低)、碳酸盐、氯化物、硫酸盐以及颗粒物含量。其高纯度和稳定的碱性使其在半导体制造中用作正性光刻胶的显影液、硅片清洗 (如去除有机物或特定残留)、阳极氧化铝工艺以及某些金属的蚀刻。在印刷电路板 (PCB) 制造中，它常用于显影、去膜、孔壁清洁和化学镀铜等湿法工艺。此外，电子级NaOH还在平板显示器 (FPD) 制造、太阳能电池片生产以及其他精密电子元器件的清洁和表面处理中发挥着关键作用。
圣天迈致力于为客户提供质量稳定、批次一致性高、供应可靠的电子级氢氧化钠溶液，助力提升电子制造工艺的良率和产品性能。如需详细规格或报价，请联系我们。
主要应用
- 半导体与集成电路 (IC) 制造: - 正性光刻胶显影液 (Developer) 的主要成分 - 硅晶圆清洗：去除有机污染物、颗粒，或用于特定清洗步骤 (如Piranha清洗后的中和) - 铝制程中的阳极氧化工艺 - 特定金属或介质层的湿法蚀刻
- 印刷电路板 (PCB) 与FPC制造: - 正性干膜或湿膜光刻胶的显影 - 去膜 (Stripping) 工艺，剥离已固化的抗蚀层或阻焊层 - 孔壁清洁与去钻污 (Desmear) - 化学镀铜过程中的pH调节与活化
- 显示面板 (FPD - LCD/LED/OLED) 制造: - 玻璃基板清洗，去除有机物和颗粒 - 光刻胶显影与剥离 - 薄膜晶体管 (TFT) 阵列制程中的蚀刻或清洗
- 太阳能光伏产业: - 硅片清洗与表面处理，去除切割损伤和有机污染 - 硅片制绒 (Texturing) 工艺，形成金字塔结构以提高光吸收效率
- LED与光电器件制造: - 芯片制造过程中的清洗与蚀刻步骤 - 封装前的基板清洁
- 精密五金与金属表面处理: - 精密电子元器件的金属部件脱脂、清洗 - 铝合金的化学抛光或阳极氧化前处理
- 高纯化学试剂配制: - 作为配制其他高纯电子化学清洗液或蚀刻液的组分
规格参数
- 化学名称: 氢氧化钠 (水溶液)
- 化学式: NaOH (aq)
- CAS 编号: 1310-73-2
- 外观: 无色透明液体
- 产品等级: 电子级 (EL, UP / SEMI G1, G2, G3 等)
- 浓度 (NaOH w/w): 20% - 50% (可按客户需求在范围内定制)
- 碳酸钠 (Na₂CO₃): ≤ 0.03% (根据具体等级，如SEMI G3)
- 氯化物 (Cl⁻): ≤ 0.5 ppm (根据具体等级)
- 硫酸盐 (SO₄²⁻): ≤ 1 ppm (根据具体等级)
- 铁 (Fe): ≤ 0.05 ppm (50 ppb) (根据具体等级)
- 钾 (K): ≤ 1 ppm (根据具体等级)
- 颗粒度 (Particles ≥0.2µm): ≤ 25 counts/mL (根据具体等级)
- 包装规格: 专用高纯HDPE桶 (25L, 200L), IBC吨桶, ISO Tank