电子级钼蚀刻液 (Mo Etchant)

产品描述

苏州圣天迈电子科技有限公司的系列高纯钼（Mo）蚀刻液，是专为平板显示（FPD）如TFT-LCD、OLED，以及半导体集成电路（IC）等尖端电子制造领域中，对钼金属及其合金（如钼铌MoNb, 钼钨MoW）薄膜进行精密图形化加工而研制的关键湿法化学品。钼因其卓越的导电性、高熔点、优良的热稳定性及与玻璃基板的热膨胀系数匹配性，在现代电子器件中被广泛用作电极、布线层或掩膜材料。我们的钼蚀刻液配方基于优化的酸性体系或高选择性的过氧化物基化学体系，通过精确控制的化学反应，实现对钼金属层的高效、可控及均匀蚀刻。

圣天迈深刻理解在复杂的多层膜结构中进行钼蚀刻的关键挑战，尤其重视对下层材料（如铝Al, 氧化铟锡ITO, 氮化硅SiNₓ, 二氧化硅SiO₂, 或玻璃基材）必须保持极高的蚀刻选择性，以避免不必要的损伤和侧蚀。因此，圣天迈的钼蚀刻液系列经过精心设计与反复验证，旨在提供稳定的蚀刻速率、卓越的蚀刻均匀性（特别是在大尺寸基板上），并能形成清晰、陡直且轮廓良好的侧壁形貌，以利于后续的精密工艺。我们严格采用电子级超高纯度原材料，并通过先进的纯化工艺，将金属离子和微小颗粒等杂质控制在极低水平（可达ppb级或更低），以防止交叉污染，确保最终电子器件的高可靠性和优良电学性能。我们的产品与标准的光刻胶（正胶/负胶）工艺具有良好的兼容性，是您在钼金属层精密加工中的理想选择。 联系我们获取更多信息。

主要应用

• TFT-LCD/OLED显示面板: - 薄膜晶体管 (TFT) 的栅极 (Gate) 及源/漏极 (Source/Drain) 金属层蚀刻 (纯钼, MoNb, MoW等) - 显示面板阵列基板的扫描线 (Scan Line) 和数据线 (Data Line) 等钼基金属布线蚀刻
• 半导体芯片制造: - 特定工艺节点中用作金属栅电极或接触孔填充金属的钼薄膜图形化 - 用作扩散阻挡层的钼基金属层蚀刻
• MEMS器件: - 微机电系统中对耐高温或特定电学性能有要求的钼结构件或电极的精密加工
• 薄膜太阳能电池: - CIGS（铜铟镓硒）等薄膜太阳能电池的钼背电极 (Back Contact) 图形化
• 传感器制造: - 特定类型传感器（如温度、压力传感器）中钼敏感材料或电极的图形化
• X射线光学元件: - X射线镜、光栅等光学元件中钼多层膜结构的精密蚀刻
• LED芯片制造: - 特定类型LED芯片中钼相关金属层的图形化处理。
• 高温电子器件: - 在需耐受高温环境的电子器件中，对钼基连线进行图形化。

产品特点

• 高蚀刻选择性: - 对玻璃、ITO、Al、SiNₓ、SiO₂等常用下层材料具优异选择比，有效保护非目标层。
• 蚀刻速率稳定可控: - 精确配方和工艺控制，提供稳定且可重复的蚀刻速率，便于工艺窗口管理。
• 优异的蚀刻均匀性: - 在大尺寸基板或晶圆表面实现均匀的蚀刻深度和线宽控制 (CD Uniformity)。
• 良好侧壁形貌控制: - 形成陡直或特定锥角的蚀刻侧壁轮廓，满足器件对图形精度的严苛要求。
• 光刻胶兼容性佳: - 对常用光刻胶（正胶/负胶）侵蚀小，保护光刻胶图形完整性。
• 电子级超高纯度: - 严格控制金属离子（如Na, K, Fe等可达ppb级）和颗粒物含量，减少器件缺陷。
• 蚀刻后表面洁净: - 易于清洗，残留物少，有利于后续工艺顺利进行，提升产品良率。
• 配方稳定性好: - 蚀刻液化学性质稳定，不易分解或产生沉淀，确保较长使用寿命和工艺稳定性。
• 广泛材料适用性: - 不仅适用于纯钼，也高效蚀刻多种钼合金（如MoNb, MoW, MoTa等）。
• 圣天迈专业支持: - 提供技术咨询、配方优化及根据客户特定需求的定制化服务。