蚀刻护岸剂 (Etching Sidewall Protection Agent / Additive)

产品描述

蚀刻护岸剂，亦称侧壁保护剂或蚀刻添加剂，是湿法蚀刻工艺中用于提升图形精度的关键助剂。其主要作用是在蚀刻过程中，选择性地吸附或反应在已形成图形的侧壁上，形成一层临时的动态保护膜。

这层保护膜能有效抑制蚀刻液对侧壁的横向侵蚀（侧蚀，undercut），同时对垂直方向的蚀刻速率影响较小。通过显著降低侧蚀，护岸剂能够大幅提高蚀刻因子 (Etch Factor)，即蚀刻深度与侧蚀宽度之比，从而获得更陡峭、更垂直的蚀刻轮廓，这对于制造高密度互连线路板 (HDI PCB)、先进封装基板、MEMS 器件以及精细金属图形至关重要。

圣天迈提供多种类型的电子级护岸剂，可能包含特定的表面活性剂、缓蚀剂、聚合物或其他有机/无机化合物，可兼容多种酸性（如氯化铜、氯化铁）和碱性蚀刻体系，并可根据客户的具体工艺需求进行定制。

主要应用

• 印制电路板 (PCB/FPC) 制造: - 高密度互连板 (HDI) 内外层精细线路蚀刻。 - 柔性电路板 (FPC) 高精度图形蚀刻。 - IC载板 (Substrate) 的超细线路蚀刻与图形控制。
• 半导体制造与封装: - 金属互连层（如铜、铝）的湿法蚀刻，提高尺寸精度。 - 引线框架 (Lead Frame) 图形化蚀刻。 - 金属掩膜版 (Metal Mask) 制作中的精密蚀刻。
• 微机电系统 (MEMS) 器件: - 精密金属电极、微执行器、微传感器等微结构的图形化蚀刻。
• 显示面板 (FPD) 制造: - TFT阵列中金属电极（如Al, Mo, Cu）的高精度图形化。 - ITO/IZO等透明导电膜的高精度图形蚀刻辅助。
• 精密金属加工: - 金属标牌、编码盘、精密弹片等精细图案的化学蚀刻。 - 装饰性金属件的艺术图案蚀刻。
• 光伏产业 (Solar Cell): - 太阳能电池电极的精细化图形蚀刻。
• 化学铣切 (Chemical Milling): - 复杂金属部件的减薄或特定形状加工。
• 其他电子元件制造: - 各类电子元器件中金属薄膜的精密图形化工艺。

产品特点

• 优异的侧壁保护: 显著减少横向蚀刻 (undercut)，保护图形侧壁。
• 提高蚀刻因子: 大幅提升蚀刻深度与侧蚀宽度的比率，获得近乎垂直的蚀刻轮廓。
• 改善图形精度: 实现更精细的线条和间距，提高分辨率和良率。
• 广泛蚀刻液兼容性: 可用于多种酸性（如 CuCl₂, FeCl₃）及碱性（如氨性）蚀刻体系。
• 对垂直速率影响小: 主要抑制侧向蚀刻，不显著降低垂直蚀刻效率。
• 使用方便经济: 易于添加到现有蚀刻液中，通常添加量低 (0.1% - 2%)，成本效益高。
• 改善基材润湿性: 部分配方可改善蚀刻液在基材表面的润湿与流动性。
• 增强工艺稳定性: 帮助获得更稳定的蚀刻结果和更宽的工艺窗口。
• 配方可定制: 可根据客户的蚀刻液类型、特定工艺条件和目标图形进行优化调整。