特需化学品
专业的特需功能性化学品，为特定工艺过程提供优质解决方案，也可根据您的需求特制，更多产品信息，请咨询我们。
铜蚀刻液
高效铜蚀刻液，适用于PCB制造过程中的铜箔蚀刻，具有蚀刻速度快、图形精准等特点。
铝蚀刻液
专业铝蚀刻液，适用于铝膜层的精细蚀刻，具有选择性好、均匀性高等特点。
ITO蚀刻液
高精度ITO蚀刻液，适用于触摸屏和显示面板制造，具有蚀刻均匀、不损伤基材等特点。
BOE蚀刻液 (Buffered Oxide Etchant)
用于精确蚀刻二氧化硅 (SiO₂) 薄膜，常用于半导体和微电子制造。
钼蚀刻液
专用钼蚀刻液，适用于半导体制造中钼金属层的精细蚀刻，具有高选择性和良好的侧壁控制。
硅蚀刻液
高性能硅蚀刻液，适用于半导体和MEMS制造中的硅材料蚀刻，可实现各向异性或各向同性蚀刻。
金蚀刻液
专业金蚀刻液，适用于电子器件中金层的精细蚀刻，具有蚀刻速度可控、不腐蚀基底等特点。
铬蚀刻液
环保型铬蚀刻液，适用于光掩模和精密电子元件制造，具有蚀刻精度高、环境友好等特点。
护岸剂
也称蚀刻添加剂，用于提高蚀刻因子，保护图形侧壁，减少横向扩展的同时实现深向蚀刻，从而获得更精细的图案和更高的分辨率。
