通用化学品
提供高品质的通用化学品，满足各类工业生产和研发需求。
硫酸
高纯度硫酸，适用于各类工业生产过程，具有杂质含量低、稳定性好等特点。
盐酸
级高纯盐酸，适用于电子工业清洗和蚀刻工艺，具有金属离子含量极低等特点。
氢氧化钠
高品质氢氧化钠，适用于化工生产和清洗工艺，具有纯度高、溶解性好等特点。
氨水
高纯度电子级氨水，适用于半导体和显示面板制造工艺，具有超低金属离子含量。
过氧化氢
超纯电子级过氧化氢，用于晶圆清洗和表面处理，具有优异的清洗效果。
硝酸
高纯度电子级硝酸，适用于半导体蚀刻和清洗工艺，金属离子含量极低。
磷酸
超纯电子级磷酸，用于半导体制造中的清洗和蚀刻工艺，具有优异的均匀性。
氢氟酸
高纯度电子级氢氟酸，用于半导体蚀刻和清洗，具有优异的选择性蚀刻特性。
冰乙酸
高纯度电子级冰乙酸，适用于光刻胶去除和清洗工艺，具有优异的溶解性能。
氟化铵
高纯度电子级氟化铵，用于半导体蚀刻和清洗，具有优异的选择性和均匀性。
胆碱
高纯度电子级胆碱，用于半导体显影和清洗工艺，具有优异的显影效果。
氢氧化钾
高纯度电子级氢氧化钾，适用于半导体清洗和蚀刻工艺，具有优异的清洗效果。
碳酸钠
高纯度碳酸钠，适用于工业清洗、玻璃制造和化学合成等领域。
氟化氢铵
用于玻璃蚀刻、金属清洗和木材防腐等工业应用。
氯化铵
高纯度氯化铵，用作电镀添加剂、电池电解质和金属焊接助焊剂。
次氯酸钠
高纯度次氯酸钠溶液，主要用于电子制造清洗和氧化处理，可有效去除表面氧化物和有机污染物，提高后续工艺的可靠性。
过硫酸钠
强氧化剂，用作PCB蚀刻剂、聚合引发剂和土壤修复剂。
甲醇
高纯度甲醇，用作溶剂、清洗剂或电子化学品合成原料，具有良好溶解性。
乙醇
高纯度无水乙醇，适用于电子元件清洗、消毒和作为溶剂使用。
异丙醇
电子级高纯异丙醇，适用于精密电子元件清洗，具有快速挥发、无残留等特点。
